一文为你解析高纯溅射靶材行业现状及未来发展

  溅射靶材是利用物理气相沉积技术制备电子薄膜材料的被轰击材料,广泛应用于半导体芯片、太阳能电池、平板显示、信息存储等领域,其中半导芯片用溅射靶材技术要求最高,具有规模化生产能力的企业数量也相对较少,主要分布在美国、日本等国家和地区。

  中国溅射靶材行业起步较晚,目前仍然属于一个较新的行业,受益于国家战略的支持,已经开始出现少量专业从事高纯溅射靶材研发和生产的企业(如江丰电子,有研新材等),并成功开发出一批高端应用领域的溅射靶材,为高纯溅射靶材大规模产业化提供了良好的研发基础和市场化条件。

  国内外溅射靶材的发展差距在哪里?国内又有哪些企业正在奋力追赶?为帮助您更加了解高纯溅射靶材行业发展趋势,新材料在线年高纯溅射靶材行业研究报告》,为您答疑解惑、提供方向性的思路和思考。

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